設備・施設紹介

乾燥室径：φ387mm
噴霧方式：二流体ノズル
水分蒸発量：3kg/h
設置場所：PTC1（1台）、PTC2（2台）
備考：クローズドシステム対応、バグフィルターでの製品回収可能

原液を0.5kg～3kg/h程度で処理していることが多い装置です。
シングル～20μm程度の微粒子を目標とすることが多い装置です。
最小50mLのサンプル液から処理可能です。

乾燥室径：φ1200mm
噴霧方式：ロータリーアトマイザー、二流体ノズル
最大水分蒸発量：4kg/h
設置場所：PTC2
備考：ターニング機構

原液を1kg～5kg/h程度で処理していることが多い装置です。
シングル～50μm程度の粒子を目標とすることが多い装置です。
乾燥室側面から熱風が投入される仕様のため、ディスク内付着が多いサンプルに有効です。
当社独自技術の洗浄性が容易なターニング式スプレードライヤーです。

乾燥室径：φ1600mm
噴霧方式：ロータリーアトマイザー、二流体ノズル
最大水分蒸発量：15kg/h
設置場所：PTC1
備考：クローズドシステム対応、ターニング機構

原液を3kg～15kg/h程度で処理していることが多い装置です。
シングル～80μm程度の粒子を目標とすることが多い装置です。
当社独自技術の洗浄性が容易なターニング式スプレードライヤーです。

乾燥室径：φ2600mm
噴霧方式：ロータリーアトマイザー、二流体ノズル
最大水分蒸発量：30kg/h
設置場所：PTC1（1台）、PTC2（1台）

原液を10kg～40kg/h程度で処理していることが多い装置です。
シングル～120μm程度の粒子を目標とすることが多い装置です。

乾燥室径：φ3500mm
噴霧方式：ロータリーアトマイザー、二流体ノズル、一流体加圧ノズル
最大水分蒸発量：50kg/h
設置場所：PTC1

原液を20kg～100kg/h程度で処理していることが多い装置です。
シングル～200μm程度の粒子を目標とすることが多い装置です。

凍結チャンバー径：φ120mm
噴霧方式：二流体ノズル
最大原液処理速度：6kg/h
冷却温度：-196℃
冷却方式：液化窒素による湿式冷却
設置場所：PTC1

ビーカー内の液化窒素中に噴霧した原液を投入・含侵させて瞬間凍結させます。
装置が小さくコンパクトで、数十～数百mL程度の少量サンプルを多検体で処理する用途に適しています。

凍結チャンバー径：φ300mm
噴霧方式：二流体ノズル
最大原液処理速度：15kg/h
冷却温度：-10～-120℃
冷却方式：液化窒素の蒸発ガスによる乾式冷却
設置場所：PTC1

ジャケット構造の凍結チャンバー外層に液化窒素を投入することでチャンバー全体を冷却し、熱交換されて気化した窒素ガスをチャンバー内層に投入します。噴霧された原液は、窒素ガスと接触して瞬間凍結します。
冷却固化した凍結体は捕集タンクに溜まり、回収が容易なため、大量生産が可能です。
液化窒素の投入速度調整により、凍結温度の制御が可能です。

凍結チャンバー径：φ2200mm
噴霧方式：ロータリーアトマイザー、二流体ノズル
最大原液処理速度：20kg/h
冷却温度：-10～-45℃
冷却方式：チラーユニット＋熱交換器＋ブロワで発生させた冷却大気ガスまたは窒素、アルゴン等の冷却不活性ガス
設置場所：PTC2

棚容量：700mL × 6段
コールドトラップ容量：3kg
コールドトラップ温度：-80℃

6段式の特殊多段仕様のため、条件を振った凍結体の乾燥が可能で、少量多品種検体に適しています。

乾燥チャンバー容量：85L
コールドトラップ容量：10kg
コールドトラップ温度：-40℃

チャンバーが揺動することにより、凍結体が効率的且つ均一に乾燥します。
CS30を上部に連結することにより、凍結処理～凍結乾燥までの連続処理が可能です。

乾燥チャンバー容量：160L
コールドトラップ容量：30kg
コールドトラップ温度：-45℃

乾燥チャンバーが回転することにより、凍結体が効率的且つ均一に乾燥します。
棚型乾燥機と比較し、乾燥時間50%以上減、シンプル構造のため、凍結体仕込、乾燥品取出、洗浄時間を大幅短縮することが可能です。
スケールアップによる大型機の製造が可能です。

ベッセル容量：0.95L
接液部：ジルコニア
ビーズ：ジルコニアφ0.5mm または 1.0mm
設置場所：PTC2

容器容量：50L
接液部：ナイロン
ボール：ジルコニアφ10
設置場所：PTC2

容器容量：100L
接液部：ナイロン
ボール：ジルコニアφ10
設置場所：PTC2

加圧能力：最大200kN
設置場所：PTC2

備考：SMT-200AFに設置して使用
設置場所：PTC2

温度制御範囲：100～1150 ℃
内寸法：100×150×100 mm
備考：N2導入可能
設置場所：PTC2

温度制御範囲：300～1800 ℃(常用1700℃)
試料室形状：Al2O3チューブ　φ60 mm
備考：真空引き、N2導入可能
設置場所：PTC2

倍率：最大60000倍
加速電圧：5、10、15kV
画像モード：二次電子、反射電子
設置場所：PTC1

測定方式：画像解析
分散タイプ：乾式(Wetセルでの湿式測定可)
測定範囲：0.5～1300 μm
測定項目：粒子径、形状、光線透過度、個数、位置
設置場所：PTC1

測定方式：レーザー回折
分散タイプ：乾式
測定範囲：0.1 ～ 2500 µm
備考：防爆仕様
設置場所：PTC1

測定方式：レーザー回折
分散タイプ：湿式、乾式
測定範囲：0.01 ～ 3500 µm
設置場所：PTC2

測定項目：安息角、圧縮度、スパチュラ角、凝集度、崩潰角、分散度、差角、ゆるめかさ密度、固めかさ密度、均一度
備考：少量測定キット保有
設置場所：PTC2

試験項目：安定性、流速変化、圧縮、通気、透過性、圧縮性、せん断、壁面摩擦
備考：少量測定キット保有
設置場所：PTC2

測定方式：容量滴定法
設置場所：PTC2

測定方式：定容法によるガス吸着法
測定ポート：3ポート
設置場所：PTC2

測定方式：気体置換法（ガスピクノメーター）
試料セル寸法：10 cc
設置場所：PTC2

測定対象試料：5～1000 μm
圧壊力測定用センサー：定格加重70N/m、7000N/m
設置場所：PTC2

回転数：0.3～ 100rpm
設置場所：PTC2

角速度範囲：0～314 rad/s
トルク範囲：0.5 nNm～230 mNm
ノーマルフォース範囲：-50～50 N
温度範囲：-40～200 ℃
設置場所：PTC2

備考：JIS R 1601治具付帯
設置場所：PTC2

接粉部：SUS304
設置場所：PTC2