3月6日から8日に開催される化学工学会 第82年会に出展します。スプレードライヤー、スプレークーラー、フリーズグラニュレーター、テスト・受託加工等をご紹介します。ご来場の際はぜひ当社ブースにお立ち寄りください。皆様のご来場を心よりお待ちしております。

化学工学会 第82年会
会期 2017/3/6(月)～2017/3/8(水)
会場 芝浦工業大学　豊洲キャンパス
会場所在地 〒135-8548　東京都江東区豊洲3丁目7番5
主催 社団法人　科学工学会
Webサイト http://www3.scej.org/meeting/82a/

出展内容 
【第 2 日 15:20～ 15:40】（講演番号：H220）スプレードライプロセスのリアルタイム測定による粒度分布のフィードバック制御
【第 3 日 13:20～ 15:20】（講演番号：PE3xx）粒子画像分析技術を基軸にしたスプレードライ工程におけるディスク回転数と粒子形態の関係性
お問合せ先 川崎事業所・パウダーテクニカルセンター TEL 044-328-7665